| 摘要 |
<p>Bei einer photoelektrischen Positionsmeßeinrichtung wird die Relativverstellung eines als Phasengitter ausgebildeten Abtastgitters (5) gegenüber einem als reflektierendes Phasengitter ausgebildeten Maßstabs (6) erfaßt, wobei von wenigstens einer Lichtquelle (1, 2) ausgesandtes Licht am Abtastgitter (5), bei der Reflexion am Maßstab (6) und schließlich wieder am Abtastgitter (5) gebeugt wird und aus dem entstehenden Interferenzbild nur Gruppen mit bestimmter Beugungsordnung über Photoempfänger (9 bis 12) erfaßt und in sich bei der Relativverstellung von Abtastgitter (5) und Maßstab (6) periodisch ändernde, gegeneinander phasenverschobene Meßsignale umgewandelt werden. Der Maßstab (6) weist zwei nebeneinander verlaufende, um 1/8 der Gitterkonstante versetzte Teilungsspuren (7, 8) auf, das Abtastgitter (5) ist für beide Teilungsspuren gemeinsam und es sind für jede Teilungsspur (7 bzw. 8) zwei Photoempfänger (9, 10 bzw. 11, 12) zum Empfang der Interferenz der in dieser Richtung gebeugten Strahlenbündel zur Erzeugung von insbesondere um 180° phasenverschobenen Signalen vorgesehen, die paarweise (9, 11 bzw. 10, 12) wegen des Versatzes der Teilungsspuren des Maßstabes (6) einen Phasenversatz von 90° aufweisen. <IMAGE></p> |
