发明名称 High purity conductive films and their use in semiconductors.
摘要 <p>A high purity contact barrier layer in a semiconductor device is characterized by an A1 content of 1 x 10&lt;1&gt;&lt;8&gt;cm&lt;-&gt;&lt;3&gt; or less. &lt;IMAGE&gt;</p>
申请公布号 EP0496637(A2) 申请公布日期 1992.07.29
申请号 EP19920300634 申请日期 1992.01.24
申请人 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA 发明人 ISHIGAMI, TAKASHI;SATOU, MICHIO;OBATA, MINORU;MIYAUCHI, MASAMI;KAWAI, MITUO;YAMANOBE, TAKASHI;YAGI, NORIAKI;MAKI, TOSHIHIRO;ANDO, SHIGERU;KOHANAWA, YOSHIKO
分类号 H01L29/47 主分类号 H01L29/47
代理机构 代理人
主权项
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