| 摘要 |
<p>Gegenstände aus Aluminium, enthaltend wenigstens eine unanodisierte Oberfläche oder Teile wenigstens einer unanodisierten Oberfläche, die geeignet sind für die Abscheidung von Schichten oder Schichtsystemen aus der Gasphase auf diesen unanodisierten Oberflächen, wobei die unanodisierten Oberflächen aus einem Reinaluminium mit einem Reinheitsgrad von gleich oder grösser 98,3 Gew.-% oder Aluminiumlegierungen aus diesem Aluminium mit wenigstens einem der Elemente aus der Reihe vom Si, Mg, Mn, Cu, Zn, oder Fe sind und die Oberflächen eine Oberflächenrauhigkeit Ra von gleich oder kleiner als 1 µm aufweisen und die Schicht oder das Schichtsystem eine Reflexionsschicht, insbesondere für Strahlungen im optischen Bereich ist.</p> |
