| 发明名称 |
REACTIVE CONTINUOUS SPUTTERING METHOD, PRODUCTION OF MAGNETIC DISK AND TRAY FOR TRANSPORTING SUBSTRATE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH04173974(A) |
申请公布日期 |
1992.06.22 |
| 申请号 |
JP19900297905 |
申请日期 |
1990.11.02 |
| 申请人 |
TDK CORP |
发明人 |
MORITA HARUYUKI;YODA KENICHI;KUBOTA TOSHIO |
| 分类号 |
C23C14/34;C23C14/56;G11B5/85;G11B5/851 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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