发明名称 半导体部件及其制造方法
摘要 本发明为一种半导体部件的制造方法,其特征在于:在多孔单晶半导体区域上形成配置了非多孔单晶半导体区域的部件;在上述的非多孔单晶半导体表面贴以由绝缘物质构成的部件的表面,进行表面贴合之后,用腐蚀法把上述的多孔单晶半导体区域除掉。
申请公布号 CN1061871A 申请公布日期 1992.06.10
申请号 CN91108569.6 申请日期 1991.08.03
申请人 佳能株式会社 发明人 米原降夫
分类号 H01L21/02;H01L21/20;C30B25/00;C30B19/00 主分类号 H01L21/02
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利代理部 代理人 范本国
主权项 1、一种半导体部件的制造方法,其特征在于: 在多孔单晶半导体区域上形成配置了非多孔单晶半导体区域的部件; 在上述的非多孔单晶半导体表面贴以由绝缘物质构成的部件的表面,进行表面贴合之后; 用腐蚀法把上述的多孔单晶半导体区域除掉。
地址 日本东京