发明名称 RESIN COMPOSITION SENSITIVE TO UV RADIATION AND TO ELECTRONS.
摘要 La composition de l'invention comporte une base polymérique et un photosensibilisateur dissous dans un solvant organique, la base polymérique contenant au moins un polymère ou un copolymère comportant un motif de base de formule (I), où A représente H ou une liaison chimique; où R1 représente -CH2-, (a) ou (b) avec R représentant H ou un radical alkyle; où R2 représente H ou OH; où R3 représente H ou un radical alkyle et Z représente un halogène, un radical halogénométhyle, ou -O-Y avec Y représentant -CH2-CH=CH2, (c), (d), ou (e), à condition que lorsque R1 représente -CH2-, R2 représente OH et R3 représente un radical alkyle, Z soit différent d'un halogène.
申请公布号 EP0474716(A1) 申请公布日期 1992.03.18
申请号 EP19900908560 申请日期 1990.05.29
申请人 COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE 发明人 PIERRAT, CHRISTOPHE;ROSILIO, CHARLES;VINET, FRANCOISE
分类号 C08G8/04;C08G8/00;C08K5/29;C08L61/04;G03F7/023;G03F7/039;H01L21/027 主分类号 C08G8/04
代理机构 代理人
主权项
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