| 发明名称 |
Process for defined etching of substrates. |
| 摘要 |
<p>A process is described for defined etching of holes using a silver mask formed by silver diffusion transfer imaging.</p> |
| 申请公布号 |
EP0475287(A2) |
申请公布日期 |
1992.03.18 |
| 申请号 |
EP19910115062 |
申请日期 |
1991.09.06 |
| 申请人 |
E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY |
发明人 |
CAIRNCROSS, ALLAN;THAYER II, CHESTER ARTHUR |
| 分类号 |
H05K3/00;G03F7/06;G03C8/28;G03F7/07;H05K3/06;H05K3/08;H05K3/10;H05K3/46 |
主分类号 |
H05K3/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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