| 摘要 |
<p>Die Anmeldung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Erzeugnissen mit einem SiO2-Gehalt von >98%, wobei die verwendete Formmasse in technologisch vorteilhafter Weise die Ausbildung besonders komplizierter räumlich-geometrischer Strukturen hoher Maßhaltigkeit gestattet. Zunächst wird ein Gemenge aus einem amorphen SiO2 (z.B. wie Quarzglasgranulat oder Quarzgutgranulat) verschiedener Korngrößenfraktionen in einem Korngrößenbereich von >63 µm bis 3mm, wobei dieses Gemenge eine Fraktion im Bereich von >0,4 mm bis 3mm von 10 bis 25 Masse-% sowie eine Fraktion im Bereich von >63 µm bis 0,4 mm von 25 bis 40 Masse-% aufweist, bereitgestellt, anschließend erfolgt ein homogenes Vermischen mit 42 bis 56 Masse-% eines aufgemahlenen Quarzglasschlickers einer Dichte von 1,72 bis 1,82 g/cm³. Nach erfolgter Homogenisierung wird die entstandene plastische Masse unter Vibration in bekannter Weise nach dem Schlickergußverfahren in eine vorbehandelte Gipsform eingefüllt und einer mehrstündigen Standzeit unterzogen, anschließend nach Entfernung der vorbehandelten Gipsform luftgetrocknet und gesintert.</p> |
