| 主权项 |
1.一种去垢性组成物,其包含有效量之水溶性聚合 物,此 水溶性聚合物系选自:A(B)m(C)n(D)oE,(1)A基为选自Rb -C(O)-Ra-及Rc-C(O)NH-Rd-R2为选自(C2-C5)烷叉 及(C2-C5)烷叉衍生物,含有一种链起始物或链转移 原子 团;Rb为选自-OQ及Rc;Rc具有下式R1Z(X1)a(X2)b-; R1为选自(C1-C18)烷基,(C1-C18)烷芳基,及(C1-C18 )芳烷基;Z为选自-O-,-S-,-CO2-,-CONR2-, 及-NR2-;X1为-CH2CH2O-;X2为-C(CH3)HCH2O-;a 为正整数以及b为非负整数,a与b之总和为3至约100, 已 知X1及X2单元可以任何顺序排列;R2为选自H,(C1-C4) 烷基,及H(X1)d(X2)e-;d及e为非负整数,d与e之总和 为由1至100;Q为选自硷金属离子,铵离子及四烷基铵 离 子中;Rd为可聚合性烯键式不饱和化合物之残基;(2) B具 有式-Re-C(O)-OQ;Re为具有2至5个碳原子之饱和的三 价脂族基(3)C为选自-Re-Re,-Rf-NHC(o)-Rc及-Re -C(O)-Rc,Rf为衍生自烯键式不饱和氨基甲酸酯官能 基 单体之聚合反应中;(4)D具有式-Re-G,其中G为选自- NH2,-NHR3,-OR3,-OR4-NH,-OR4-SO3Q,-OR4 -PO3Q,R3为(C1-C8)烷基,且R4为(C1-C8)烷基,且R4 为(C1-c8)烷撑;(5)E基为选自Rc-Rg-,Rb-C(O)-Rg -及Rc-C(O)NH-Rd-,Rg为选自(C2-C5)烷撑及(C2- C5)烷撑衍生物,其含有一链转移原子团;m为正整数 以及 n及O为非负整数,m如于(B)m中含有聚合物重之约20至 95% ,n如包含于(C)n中,为选自约80至5%之聚合物重量,o, 如包含于(D)o中,为选自。至约30%之聚合物重量,A,(B )m,(C)n,(D)o,及E之重量百分比之总和为100%,此外 ,B,C及D基可排列成任何序列亦为已知为;且此聚合 物 具有约500至50,000之数量平均分子量;以及(b)具有式 L -J之聚合物,L具有式Rc-C(O) (CHR3)-S-,-J具有 式-(B)m(D)oE,下标C为选自1,2及3,R3为选自H-, CH3-,及C2H5-,L与J之重量比値为由约1;340至7:1, O如包含于(D)o中,约为此聚合物重之40%,m与n之总和 为 由约10:1,O如包含于(D)o中,约为此聚合物重之40%,m 与n之总和为由约10至500;且此聚合物具有约500至50, 000之数量平均分子量。2.如申请专利范围第1之项 之去垢性组成物,其中(1)A为 选自(2)B为具有下式之基(3)C为具有下式之基(4)E为 选自3.如申请专利范围第2项之去垢性组成物,其中 聚合物所 含之Rc基为式R1O(X1)a-,其中之R1为(C1-C18)烷基, 以及a为约5至45。4.如申请专利范围第3项之去垢性 组成物,其中R1为(C10 -C18)烷基。5.如申请专利范围第4项之去垢性组成 物,其中此聚合物 之平均分子量约为1000至5000。6.如申请专利范围第 1项之去垢性组成物,其中水溶性聚 合物具有式L-J,m与o之总和为由约20至150。7.如申请 专利范围第1项之去垢性组成物,其中水溶性聚 合物为选自具有式L-J之聚合物,L与J之重量比値为 由约1:100至2:1。8.如申请专利范围第1项之去垢性 组成物,其中Rd为, -二甲基间异丙基 基。9.如申请专利范围第1项 之去垢性组成物,其中聚合物之 平均分子量为由约1,000至15,000。10.如申请专利范 围第1项之去垢性组成物,其中之组成物 为液态的。11.如申请专利范围第1项之去垢性组成 物,其中之去垢性 成分系选自适合清洗洗衣服织物之重功用的去垢 性组成物 。12.如申请专利范围第1项之去垢性组成物,其中 之去垢性 成分系选自适合手洗碗盘之轻形功用的去垢性组 成物。13.如申请专利范围第1项之去垢性组成物, 其中之去垢性 成分系选自适合机器清洗碗盘之轻形功用的去垢 性组成物 。14.一种清洗织物之方法,其特征为利用如申请专 利范围 第1项之去垢性组成物,以清洗布织物。15.一种清 洗硬表面之方法,其特征为利用如申请专利范 围第1项之去垢性组成物,以清洗具有硬表面之物 体。16.一种具有式L-J之聚合物,其中(a)L具有式Rc-C( O)( CHR3)c-S-;Rc具有式R1Z(X1)a(X2)b-;R1为选自(C1 -C18)烷基,(C1-C18)烷芳基,及(C1-C18)芳烷基;Z 为选-O-,-S-,-CO2-,-CONR2-,及-NR2-; X1为-CH2CH2O-;X2为-C(CH3)HCH2O-;a为一正整数 及b为一非负整数,a与b之总和为由3至约100,已知X1 及 X2单元可以任何顺序排列;R2为选自H,(C1-C4)烷基; 及H(X1)a(X2)b-;C为选自1,2及3;以及R3为选自H-, CH3-及C2H5-;(b)J具有式-(B)m(D)oE;(1)B具有式- Re-C(O)-OQ,Re为具有2至5个碳原子之饱和的三价脂族 基,Q为选自硷金属离子,铵离子及四烷基铵离子中; (2) D为-Rf-C(O)-G其中G选自-NH2,-NHR3,-OR3,- OR4-OH-OR4-NH,-OR4-SO3Q,-OR4-PO3Q,R3为( C1-C8)烷基,R4为(C1-C8)烷撑,且Rf为衍生自烯键式 不饱和氨基甲酸酯官能基单体之聚合反应中;(3)E 为选自 Rb-C(O)-Rg及Rc-C(O)NH-Rd-之基,Rg为(C2-C5)烷 撑,且Rb为选自一OQ及Rc;m为正整数以及0为一非负整 数 ,已知B及D基可以任何顺序排列,0如包含于(D)o中,可 为聚合物重之约40%,m与0之总和为由约10至50;且此 聚 合物具有约500至50,000之数量平均分子量。17.一种 经溢流技术增加地质学所形成石油之产量的方法 ,此方法包含使用一种有效量之水溶性聚合物,以 抑制于 溢流组成物中硫酸钡之形成,此水溶性聚合物系选 自:(a )具有下式之聚合物A(B)m(C)n(D)oE(1)A基为选自Rb-C(O )-Ra-及Rc-C(O)NH-Rd-;Ra为选自(C2-C5)烷叉及( C2-C5)烷叉衍生物,其含有一链起始物或链转移原子 团 ;Rb为选自-OQ及Ra;Rc具有下式R1Z(X1)a(X2)b-;R1 为选自(C1-C18)烷芳基,(C1-C18)芳烷基,及(C1-C18 )烷基,Z为选自-O-,-S-,-CO2-,-CONR2-,及 -NR2;X1为-CH2CH2O-;X2为-C(CH3)HCH2O-;a为一 正整数以及b为一非负整数,a与b之总和为由3至约 100, 已知X1及X2单元可以任何顺序排列;R2为选自H,(C1-C4 )烷基,及H(X1)d(X2)e-;d及e皆为非负整数,d与e之总 和为由1至约100;Q为选自硷金属离子,铵离子及四烷 基 铵离子中;Rd为可聚合性烯键式不饱和化合物之残 基;(2 )B具有式-Re-C(O)-OQ,Re为具有2至5个碳原子之饱和 三价脂族基,(3)C为选自-Re-Ro,-Rf-NHC(O)-Rc及 -Rc-C(O)-Rc,Rf为衍生自烯键式不饱和氨基甲酸酯官 能基单体之聚合反应中;(4)D具有式-Re-G,其中G为选 自-NH2,-NHR3,-OR3,-OR4-OH,-OR4-NH,OR4 -SO3Q,-OR4PO3Q,R3为(C1-C8)烷基,且R4为(C1-C8 )烷撑;(5)E基为选自Rc-Rg,Rb-C(O)-Rg-及Rc-C(O )NH-Rd-,Rg为选自(C2-C5)烷撑及(C2-C5)烷撑衍生 物,其包含一链转移原子团;m为一正整数,以及n及o 为 非整数,m如包含于(B)m中,为选自约20至95%之聚合物 重 ,n如包含于(C)n中,为选自约80至5%之聚合物重,o如包 含于(D)o中,为选自o至约30%之聚合物重,A,(B)m,(C) n,(D)o,及E之重量百分比之总合为100%,此外,已知B ,C及D基可以任何顺序排列;以及此聚合物具有由约 500 至50,000之平均分子量;以及(b)具有式L-J之聚合物,L -具有式Rc-C(O)(CHR3)c-S-,-J具有式-(B)m(D)oE ,C为1,2或3,R3为选自H-,CH3-,及C2H5-,L与J之 重量比値为由约1:340至7:1,o如包含于(D)o中,约为 此聚合物重之40%,m与n之总和为由约10至500;且此聚 合 |
