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发明名称 PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION/ETCHING IMPROVED UNIFORMITY BY ELECTRODE MODIFICATIONS
摘要
申请公布号 EP0416982(A3) 申请公布日期 1991.12.11
申请号 EP19900402392 申请日期 1990.08.29
申请人 PACIFIC WESTERN SYSTEMS, INC. 发明人 ENGLE, GEORGE M.;PIJASZEK, ROBERT F.
分类号 H01L21/302;H01L21/205;H01L21/31;H01L21/683;(IPC1-7):H01L21/00 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
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