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发明名称
WASHING METHOD OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND ITS EQUIPMENT
摘要
申请公布号
JPH03218016(A)
申请公布日期
1991.09.25
申请号
JP19900012465
申请日期
1990.01.24
申请人
TOSHIBA CORP
发明人
HIRATA OSAMU;MASE KOICHI;ABE MASAYASU
分类号
H01L21/304
主分类号
H01L21/304
代理机构
代理人
主权项
地址
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