钯合金电镀方法

摘要

本发明记述一种电镀方法以电镀钯和砷之合金者。所得之电极淀积物是光亮，具延性，且当电极淀积物是十分厚时，依然具延性及无裂缝。该淀积物是十分的硬且适合作为接触表面，特别是在磨损特性需要厚淀积物之情况。该电镀方法用以经由电形成程序而制造各种物件例如风箱时亦属有用，特别因为经电镀之材料具有异常之物理性质（良好弹性，低应力和延性）以及良好之耐腐蚀性。

主权项

1﹒一种电镀靶和砷之方法,该方法包括将电流通过阴极,重镀浴及阳极,该电镀浴包括钯来源及砷来源且其导电性大于10─3欧姆/公分且pH値大于7,该钯来源包括钯络合物离子与络合剂,该结合剂选自氨,二氨基丙烷,1,4─二氨基丁烷,1,6─氨基己烷,及2─羟基─1,3─二氨基丙烷,该砷来源选自AsO3,A5205,KH2A3O4,K2HAsO4,K3AsO。,Na2H3AsO4,Na2AsO4,Na3AsO4,K3AsO3,KAsO2,Na3AsO3,NaAsO4及Na4As2O7,该电镀浴所具有之钯浓度为0﹒005至1﹒0莫耳,而砷浓度自0﹒01莫耳至0﹒1莫耳。2﹒如申请专利范围第1项之方法,其中,该二氨基丙烷是1,3─二胺基丙烷。3﹒如申请专利范围第1项之方法,其中,砷来源系选自As2O3,As2O5。4﹒如申请专利范围第1项之方法,其中,该电镀浴包含界面活性剂及增亮剂。5﹒如申请专利范围第1项之方法,其中,该电镀浴更包含磷酸盐缓冲剂。6﹒如申请专利范围第1项之方法,其中,钯在电镀浴之浓度为0﹒05至0﹒3莫耳。