| 发明名称 |
CLEANING METHOD OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE PROCESSING EQUIPMENT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH03127831(A) |
申请公布日期 |
1991.05.30 |
| 申请号 |
JP19890266461 |
申请日期 |
1989.10.13 |
| 申请人 |
MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD |
发明人 |
UENO ATSUSHI |
| 分类号 |
H01L21/302;H01L21/304;H01L21/3065 |
主分类号 |
H01L21/302 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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