发明名称 COMPOSITION ORGANOPOLYSILOXANE A RESTE CYCLOPENTENYLE RETICULABLE EN COUCHE MINCE SOUS U.V..
摘要 <P>La présente invention concerne une composition organopolysiloxane à reste cyclopentenyle réticulable en couche mince par exposition à la lumière ultraviolette, caractérisée en ce qu'elle comporte: <BR/> A. - 100 parties de diorganopolysiloxane comportant par molécule au moins 3 restes cyclopentenyle, chacun de ces groupes étant directement lié, par une liaison SiC, à un atome de silicium différent, <BR/> B. - une quantité efficace d'au moins un photoinitiateur. <BR/> Application des compositions à la réalisation de revêtements notamment pour la réalisation de revêtements antiadhérents sur papier et pour l'encapsulation de circuits imprimés.</P>
申请公布号 FR2654738(A1) 申请公布日期 1991.05.24
申请号 FR19890015529 申请日期 1989.11.21
申请人 RHONE POULENC CHIMIE 发明人 CAVEZZAN JACQUES;FRANCES JEAN-MARC
分类号 C08L83/07;C08F2/50;C08F290/00;C08F299/08;C08G77/20;C08G77/38;C08L83/04;C09D183/04 主分类号 C08L83/07
代理机构 代理人
主权项
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