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发明名称
DIFFUSION PROCESS OF IMPURITY INTO SILICON LAYER
摘要
申请公布号
JPH0399427(A)
申请公布日期
1991.04.24
申请号
JP19890236377
申请日期
1989.09.12
申请人
AISIN SEIKI CO LTD
发明人
GOTO KOJI
分类号
H01L21/265
主分类号
H01L21/265
代理机构
代理人
主权项
地址
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