| 发明名称 |
CMOS and bipolar fabrication process using selective epitaxial growth scalable to below 0.5 micron |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US5010034(A) |
申请公布日期 |
1991.04.23 |
| 申请号 |
US19890320011 |
申请日期 |
1989.03.07 |
| 申请人 |
NATIONAL SEMICONDUCTOR CORPORATION |
发明人 |
MANOLIU, JULIANA |
| 分类号 |
H01L29/73;H01L21/20;H01L21/331;H01L21/74;H01L21/762;H01L21/8249;H01L27/06;H01L29/06;H01L29/08 |
主分类号 |
H01L29/73 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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