发明名称 SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS USING MO-CVD METHOD
摘要
申请公布号 JPH0377314(A) 申请公布日期 1991.04.02
申请号 JP19890214339 申请日期 1989.08.21
申请人 DAIWA HANDOTAI SOCHI KK 发明人 SATO RYOZO
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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