ION SPUTTERING METHOD AND DEVICE,申请号JP19890196232-传众专利搜索

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发明名称	ION SPUTTERING METHOD AND DEVICE
摘要
申请公布号	JPH0361368(A)	申请公布日期	1991.03.18
申请号	JP19890196232	申请日期	1989.07.28
申请人	HITACHI NAKASEIKI LTD	发明人	KIMURA MASASHI;MIYAZAWA KOICHI
分类号	C23C14/54	主分类号	C23C14/54
代理机构		代理人
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