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发明名称 High density plasma deposition and etching apparatus
摘要
申请公布号 US4990229(A) 申请公布日期 1991.02.05
申请号 US19890365533 申请日期 1989.06.13
申请人 PLASMA & MATERIALS TECHNOLOGIES, INC. 发明人 CAMPBELL, GREGOR;CONN, ROBERT W.;SHOJI, TATSUO
分类号 C23C14/35;C23C16/50;C23F4/00;H01J37/32;H01L21/205;H01L21/302;H05H1/46 主分类号 C23C14/35
代理机构 代理人
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