发明名称 聚有机基矽氧烷之制法
摘要 本发明系有关一种聚有机基矽氧烷之制法,其特征为在100~500重量份水性媒体中,于0.1~5重量份有机磺酸与0.05~10重量份三卤化醋酸之共存下,使100重量份具有一般式(I)□ …(Ⅰ)(式中,R1系表示取代或不取代之1价有机基,n系0~3之整数)所表示构造单位之有机基矽氧烷予以乳化分散后、加热、冷却进行聚缩合。
申请公布号 TW150328 申请公布日期 1991.01.21
申请号 TW078105271 申请日期 1989.07.06
申请人 东芝矽酮股份有限公司 发明人 舟桥裕一;松本诚;栗田明嗣;渡边纯一郎
分类号 C08G77/06 主分类号 C08G77/06
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1﹒一种聚有机基矽氧烷之制法,其特征为在100-500重量份水性媒体中,于0﹒1-5重量份有机磺酸与0﹒05-10重量份三卤化醋酸之共存下,使100重量份具有一般式(1)R1nSiO4─n/2(式中,R1系表示取代或不取代之1价有机基,n系0-3之整数)所表示构造单位之有机基矽氧烷乳化、分散后、加热、冷却进行聚缩合。2﹒如申请专利范围第1项所请聚有机基矽烷之制法,其中有机磺酸为选自脂肪族代之苯磺酸,脂肪族取代之磺酸,脂族磺酸,矽烷基烷基磺酸及脂肪族取代二苯基醚磺酸群中的至少一种有机磺酸脂肪族取代基为具有16-18碳原子长度碳链。3﹒如申请专利范围第1项所请聚有机基矽烷之制法,其中三卤化醋酸为选自三氟醋酸、三氯化醋酸及三溴化酯酸群中之少一种三卤化醋酸。
地址 日本