| 主权项 |
1.制造单羟基及多羟基醇之方法,系由氢、一氧化碳和下式之缩醛,式中R2为氢,C1-20,较佳为C1-4烷基,R1及R3可为相同或不同,系C1-20直链或分枝,饱和或未饱和之羟基;或和下式之醚,R4-0-R5式中R4及R5可为相同或不同,系C1-20直链或分枝,饱和或未饱和,经取代或未被取代之烃基;或诸R基互相结合而形成C2-10环醚;和包含钴、钌及碘之触媒系接触,在50至250℃之温度,1000至15,00015,000psig 之压力下反应而得;其中氢对一氧化碳之摩尔比为5:1至1:5,钴对缩醛或醚之摩尔比为1:5至1:50,000 ,其改良之处在于触媒系中含有下式之膦配合体:式中R6,R7及RB各自独立,为单价有机基,可为相同或不同,经取代或未被取代,或任何两基一起形成有机两价环系统,系C1-20饱和或不饱和,直链或分枝之烃基,C3-10环碳原子之芳基,芳烷基或烷芳基;或C5-8还碳原子之环烷基;或下式之膦配合体式中R9,R10,R11,及R12,可为相同或不同,系C1-6直链或分枝,经取代或未被取代之烷基,或C6-10芳基,n为2至6之整数,其浓度是使钴对膦配合体之摩尔比为1:0.1至1:100 ,较理想之摩尔比为1:O.5至1:5。2.依第1.项之改良制程,其中膦配合体为二环己膦。3.依第1.项之改良制程,其中膦配合体为三苯膦。4.依第1.项之改良制程,反应混合物中再添加10至90% 体积(对存在之缩醛或醚而言)之实质上惰性、非极性之潜溶剂。5.依第4.项之改良制程,其中潜溶剂为辛烷。 |
