MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR LASER WITH NON-ABSORBING MIRROR STRUCTURE,申请号EP19890313085-传众专利搜索

发明名称	MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR LASER WITH NON-ABSORBING MIRROR STRUCTURE
摘要
申请公布号	EP0373933(A3)	申请公布日期	1990.12.12
申请号	EP19890313085	申请日期	1989.12.14
申请人	KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA	发明人	ISHIKAWA, MASAYUKI INTELLECTUAL PROPERTY DIVISION;OKUDA, HAJIME INTELLECTUAL PROPERTY DIVISION;SHIOZAWA, HIDEO INTELLECTUAL PROPERTY DIVISION;ITAYA, KAZUHIKO INTELLECTUAL PROPERTY DIVISION;WATANABE, YUKIO INTELLECTUAL PROPERTY DIVISION;SUZUKI, MARIKO INTELLECTUAL PROPERTY DIVISION;HATAKOSHI, GENICHI INTELLECTUAL PROPERTY DIVISION
分类号	H01S5/00;H01S5/042;H01S5/16;H01S5/223;H01S5/32;H01S5/323;(IPC1-7):H01L33/00;H01S3/085;H01S3/19	主分类号	H01S5/00
代理机构		代理人
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