| 发明名称 |
PROCESS FOR FORMING A LAYER OF PATTERNED PHOTORESIST |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0359342(A3) |
申请公布日期 |
1990.11.22 |
| 申请号 |
EP19890202373 |
申请日期 |
1985.08.07 |
| 申请人 |
NCR CORPORATION |
发明人 |
MAHERAS, GEORGE;HAYWORTH, HUBERT O.;GULETT, MICHAEL R. |
| 分类号 |
G03F7/26;G03C1/00;G03C1/72;G03C5/00;G03C5/08;G03F7/00;G03F7/095;G03F7/20;G03F7/38;H01L21/027;H01L21/30;(IPC1-7):G03F7/26 |
主分类号 |
G03F7/26 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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