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发明名称 CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS
摘要
申请公布号 JPH02271527(A) 申请公布日期 1990.11.06
申请号 JP19890093814 申请日期 1989.04.12
申请人 FUJITSU LTD 发明人 KOYAMA KENJI
分类号 H01L21/205;H01L21/31 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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