Dry development resist system.

摘要

Es wird ein fein strukturierbares Resistsystem für ein Trockenentwicklungsverfahren vorgeschlagen, bei dem in einer lichtempfindlichen Schicht durch abbildende Belichtung ein latentes Bild erzeugt und durch Behandlung mit zum Beispiel einer Organosiliziumverbindung verstärkt wird, wobei gleichzeitig die Ätzresistenz gegenüber einem Sauerstoffplasma erhöht wird. Die lichtempfindliche Schicht weist vorzugsweise Anhydrid- oder Epoxidgruppen auf, die zu einer Reaktion mit den funktionellen Gruppen der Organosiliziumverbindungen geeignet sind. Die silylierende Behandlung kann mit einer Lösung oder Emulsion in einfachen Apparaturen oder in der Gasphase durchgeführt werden.