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发明名称 NEGATIV-PHOTORESIST AUF BASIS VON POLYPHENOLEN UND EPOXIDVERBINDUNGEN ODER VINYLETHERN.
摘要
申请公布号 DE3766315(D1) 申请公布日期 1991.01.03
申请号 DE19873766315 申请日期 1987.07.31
申请人 CIBA-GEIGY AG, BASEL, CH 发明人 ROTH, DR., MARTIN, CH-1711 GIFFERS, CH;MEIER, DR., KURT, CH-4123 ALLSCHWIL, CH
分类号 C08L61/06;A61K38/00;C08L61/04;G03F7/023;G03F7/027;G03F7/033;G03F7/038;H04N5/232;(IPC1-7):G03F7/038 主分类号 C08L61/06
代理机构 代理人
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