CURABLE COMPOSITION FOR IMPRINTS PATTERNING METHOD AND PATTERN

摘要

양호한 패턴 형성성을 유지하고, 반복 패턴 전사 후에도 적은 결함을 생성할 수 있는 임프린트용 경화성 조성물을 제공한다. 상기 임프린트용 경화성 조성물은 (A) 중합성 화합물과, (B) 광중합 개시제와, (C) 적어도 1개의 말단 수산기 또는 적어도 1개의 에테르화된 말단 수산기를 갖는 폴리알킬렌글리콜 구조를 갖고, 또한 불소원자 및 실리콘원자를 실질적으로 함유하지 않는 비중합성 화합물을 함유한다.