首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
DEFECT FREE EPITAXIALLY GROWN SILICON AND METHOD OF PRUDUCING SAME
摘要
申请公布号
EP0313493(A3)
申请公布日期
1990.06.13
申请号
EP19880480025
申请日期
1988.09.13
申请人
INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION
发明人
BEYER, KLAUS DIETRICH;LU-CHEN HSU, LOUIS;SCHEPIS, DOMINIC JOSEPH;SILVESTRI, VICTOR JOSEPH
分类号
H01L21/205;H01L21/76;H01L21/762;(IPC1-7):H01L21/20
主分类号
H01L21/205
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
细碎粉末喷射设备
图象处理设备和方法以及记录介质
取代的苯并咪唑及其制备和用途
光纤路径的虚拟保护方法及装置
DNA-PCR生物芯片及使用该芯片的微型热循环器
接骨药物及其制备方法
可拆组式计算机系统模块
核反应堆外壳内的压力抑制装置
用于气化工艺中的热电偶
喷墨打印机用墨盒
防晒产品抗水性效能的体外测定方法
空调机
车用保险杠模具
取代的苯甲酰胍、它们的制备方法、它们制备药物或诊断剂的用途以及含有它们的药物
棒材供给机和棒材供给机的控制方法
改进了服用性的咀嚼型软胶囊剂及其制法
天线装置
制备醇的方法
等离子体化学气相合成法制备碳化硅陶瓷粉体的工艺
选择性显示电视节目的方法