用离子束反应溅射方法成膜的装置

摘要

用离子束反应溅射方法成膜的装置，主要用于制作多成分膜和多成分多层膜。本发明在装置的靶室中设有2～4个溅射离子源，采用聚焦离子源，以基片为中心分布于基片周围。每个离子源前方相应有一组装有4块不同材料的靶片的转动靶。对着基片设有一个用于辐照基片的无灯丝阳极辐照离子源，如用高频离子源。2～4个溅射离子源与每组有4种材料的靶配合，能作出每个周期厚度内有4层，每层成分完全不重复的结构可调多层膜。辐照离子源能长期工作于反应气体中。

主权项

1、用离子束反应溅射方法成膜的装置，包含有靶室[1]，与靶室相连接的真空系统[2]、供气系统[4]、[5]和冷阱[3]，靶室中装有转动工作台[8]，工作台与基片[10]之间有加温板[9]，基片前方设有档板[11]，其特征是在靶室内设有2～4个溅射离子源[12]，以基片为中心分布于基片周围，每个溅射离子源沿束流射出的前方相应有一组转动靶[13]；对着基片设有一个无灯丝阳极的辐射离子源[6]。