发明名称 浸透印章印油供给结构的改进
摘要 本实用新型是一种浸透印章印油供给结构的改进。由印油座、印章体、控油座组成。控油座内有一隔体分隔其内腔成上下两空间,上空间联印油座,下空间装印章体。隔体中心有一圆孔,一直通孔的油针,一端插于印章体内,另一端置于隔体圆孔中。盖章时印章体使空气经圆孔进入印油座内,同时印油经油针的油孔均匀分布流入印章体内,能产生美观清晰的图面,无深浅不一的现象。是自动供给印油,使用极为方便。
申请公布号 CN2056634U 申请公布日期 1990.05.02
申请号 CN89215933.2 申请日期 1989.08.30
申请人 洪昭光 发明人 洪昭光
分类号 B41K1/02;B41K1/38;G09F3/02 主分类号 B41K1/02
代理机构 中国科学院上海专利事务所 代理人 孙粹芳;黄桂娟
主权项 1、一种浸透印章印油供给结构,包括装有印油的印油座和印章体,其特征在于还有一个控油座4,上端与印油座2相封接,有一隔体41将控油座4内腔分隔成上下两空间,印章体6装在下空间与隔体41相联,隔体41中心有一上下贯通的园孔43,一具有直通油孔70的油针7一端插入印章体6内,另一端伸入隔体42的圆孔43。
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