PLASMA REACTION PROCESS,申请号JP19880255489-传众专利搜索

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发明名称	PLASMA REACTION PROCESS
摘要
申请公布号	JPH02101744(A)	申请公布日期	1990.04.13
申请号	JP19880255489	申请日期	1988.10.11
申请人	SEMICONDUCTOR ENERGY LAB CO LTD	发明人	TSUCHIYA MITSUNORI;KAWANO ATSUSHI;IMATO SHINJI;NAKASHITA KAZUHISA;YAMAZAKI SHUNPEI
分类号	H01L21/302;H01L21/205;H01L21/3065;H01L21/31	主分类号	H01L21/302
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