RADIATION SENSITIVE RESIST MATERIAL

摘要

L'invention concerne une matière de réserve sensible au rayonnement destinée à la photolithographie dans la fabrication de dispositifs microélectroniques. La matière comprend un produit de polymérisation d'un styrène substitué dans lequel au moins vingt moles pour cent représentent un styrène substitué contenant un substituant en position ortho. La présence du substituant ortho confère des propriétés améliorées telles que du contraste et de la résistance à un gonflement provoqué par solvant, de sorte que l'on peut former une configuration de réserve précise.