| 发明名称 |
Process for imaging multi-layer resist structure |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US4904564(A) |
申请公布日期 |
1990.02.27 |
| 申请号 |
US19880207574 |
申请日期 |
1988.06.16 |
| 申请人 |
INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION |
发明人 |
CHIONG, KAOLIN N. |
| 分类号 |
G03F7/022;G03F7/023;G03F7/095;G03F7/26;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/022 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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