| 发明名称 |
MASK LAYOUT METHOD FOR SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0221634(A) |
申请公布日期 |
1990.01.24 |
| 申请号 |
JP19880170980 |
申请日期 |
1988.07.11 |
| 申请人 |
DAINIPPON PRINTING CO LTD |
发明人 |
IKEUCHI TATSUYA |
| 分类号 |
H01L27/04;G06F17/50;H01L21/82;H01L21/822 |
主分类号 |
H01L27/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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