| 发明名称 |
METHOD OF MEASURING PLASMA CHARACTERISTICS IN SEMICONDUCTOR PROCESSING |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0216733(A) |
申请公布日期 |
1990.01.19 |
| 申请号 |
JP19890112366 |
申请日期 |
1989.05.02 |
| 申请人 |
TEXAS INSTR INC <TI> |
发明人 |
GABURIERU JII BAANA;DEMETAA JIEI EKONOMOU |
| 分类号 |
G01N21/62;C23C16/50;C23F4/00;H01J37/32;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31 |
主分类号 |
G01N21/62 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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