| 发明名称 |
Alignment mark system for electron beam/optical mixed lithography |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US4893163(A) |
申请公布日期 |
1990.01.09 |
| 申请号 |
US19880173832 |
申请日期 |
1988.03.28 |
| 申请人 |
INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION |
发明人 |
RUDECK, PAUL J. |
| 分类号 |
H01L21/027;G03F9/00;H01L23/544 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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