| 发明名称 |
Method of manufacturing a semiconductor device, in which metal silicide is provided in a self-registered manner |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
US4885259(A) |
申请公布日期 |
1989.12.05 |
| 申请号 |
US19880290923 |
申请日期 |
1988.12.28 |
| 申请人 |
U.S. PHILIPS CORPORATION |
发明人 |
OSINSKI, KAZIMIERZ;VOORS, INGRID J. |
| 分类号 |
H01L29/78;H01L21/265;H01L21/336 |
主分类号 |
H01L29/78 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
