| 发明名称 |
Plasma treating apparatus for gas temperature measuring method |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US4883560(A) |
申请公布日期 |
1989.11.28 |
| 申请号 |
US19890309292 |
申请日期 |
1989.02.13 |
| 申请人 |
MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD. |
发明人 |
ISHIHARA, SHIN-ICHIRO |
| 分类号 |
C23F4/00;G01K11/20;H01J37/32;H01L21/302;H01L21/3065 |
主分类号 |
C23F4/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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