发明名称 反应性染料及其制法和应用
摘要
申请公布号 TW122537 申请公布日期 1989.11.11
申请号 TW077104231 申请日期 1988.06.22
申请人 汽巴–嘉基股份有限公司 发明人 阿瑟西欧斯吉卡斯
分类号 C09B62/04;C09B67/24;D06P1/382 主分类号 C09B62/04
代理机构 代理人 郑自添 台北巿敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1﹒式(1)反应性染料式中D系单偶氮,多 偶氮,金属错合偶氮,,花青,甲 朁,甲亚胺,二恶吩,氐,三苯甲烷 ,呫吨,'硝芳基,苯,或括四碳 亚胺染料之基,R,B1及B2各自独立 ,系氢或C1─4烷基,其可被卤素,羟 ,氰基,C1─4烷氧基,C1─4烷氧 羰基,羧基,胺磺醯,磺基或硫酸根取代 :X及Y各自独立,系氰,氯,溴,磺基 ,C1─4烷磺基或苯磺基,A系胺基取 代基含至少下式之一基者:Z系─硫酸 乙基,─硫代硫酸乙基,─磷酸乙基 ─醯氧乙基,─卤乙基或乙烯基,Q 系1或2个取代基含下列之基:氢,C1 ─4烷基,C1─4烷氧基,卤素,羧基 或磺基。 2﹒依申请专利范围第1项之反应性染料,式 中A系下式之基:Z如式(I)中所定义 ,alk系C1─6烷撑及其支链异构物 ,T系氢,氯,溴,氟,羟,磺基,C1 ─4乙醯氧基,氰基,羧基,C1─5烷 氧羰基,胺基甲醯或─SO2─Z基其中 Z如前述,V系氢或C1─4烷基可被羧 基或磺基或其衍生物所取代,C1─2烷 氧基,卤素或羟基 ,或式中Z,alk 及T如前述,R1系氢或C1─6烷基, 每一alk"系独立为聚甲撑具C2─6 者或其支链异构物,及m系1至6,p系 1至6及q系1至6之数式中B3系氢或 C1─4烷基可被卤素,羟,氰基,C1 ─4烷氧基,C1─4烷氧羰基,羧基, 胺磺醯,磺基或硫酸基所取代,U系─C O─或─SO2─,R'系下式之基:Z 如式(I)中所定义,alk系C1─6 烷撑及其支链异构物,T系氢,氯,溴, 氯,羟,磺基,C1─4乙醯氧基,氰基 ,羧基,C1─5烷氧羰基,胺基甲醯或 ─SO2─Z基其中Z如前述,V系氢或 C1─4烷基可被羧基或磺基或其衍生物 所取代,C1─2烷氧基,卤素或羟基, 或式中Z,alk及T如前述,R1系氢 或C1─6烷基,每一alk'系独立为 聚甲撑具C2─6者或其支链异构物,及 m系1至6,p系1至6及q系1至6之 数,如U系─SO2─时,v必顶不为氢 ,及苯或苯基A'能含另外取代基,4﹒ 依申请专利范围第1项之反应性染料,式 中A系下式之基:式中B3系氢或C1─ 4烷基可被卤素,羟,氰基,C1─4烷 氧基,C1─4烷氧羰基,羧基,胺磺醯 ,磺基或硫酸根所取代,B系─(CH2 )n─O(CH2)n或─NH(CH2 )n,n系1至6,R1系下式:Z如式 (I)中所定义,alk系C1─6烷撑 及其支链异构物,T系氢,氯,溴,氟, 羟,磺基,C1─4乙醯氧基,氰基,羧 基,C1─5烷氧羰基,胺基甲醯或─S O2─Z基其中Z如前述,V系氢或C1 ─4烷基可被羧基或磺基或其衍生物所取 代,C1─2烷氧基,卤素或羟基,或式 中Z,alk及T如前述,R1系氢或C 1─6烷基,每─alk"系独立为聚甲 撑具C2─6者或其支链异构物,及m系 1至6,p系1至6及q系1至6之数, 苯或A'能含另外取代基,5﹒依申请 专利范围第1项反应性染料,式中 A系 下式之基式中B3系氢,C1─4烷基可 被卤素,羟基,氰基,C1─4烷氧基, C1─4烷氧羰基,羧基,胺磺醯,磺基 或硫酸根所取代,R'系下式:Z如式( I)所定义,R1系氢或C1─6烷基, r系3至5,苯反苯A'能含另外取代基 。 6﹒依申请专利范围第2项之反应性染料,式 中A系下式之基。 7﹒依申请专利范围第3项之反应性染料,式 中A系下式之基:及R2系氢,C1─4 烷基,C1─4烷氧基,卤素,羟,羧基 或磺基,及B3,U及R'申请专利范围 第3项中所定义。 8﹒依申请专利范围第1项之反应性染料,式 中B1及B2系氢及Q系磺基。 9﹒依申请专利范围第1项之反应性染料,式 中X及Y系氯原子。 10﹒依申请专利范围第1项之反应性染料,式 中R系氢,甲基或乙基。 11﹒依申请专利范围第1项之反应性染料,式 中D系单偶氮或二重氮染料基。 12﹒依申请专利范围第1项之反应性染料,式 中D系金属错合物偶氮或甲染料基。 13﹒依申请专利范围第1项之反应性染料,式 中D系辊染料基。 14﹒依申请专利范围第1项之反应性染料,式 中D系花青染料基。 15﹒依申请专利范围第1项之反应性染料,式 中D系二恶基。 16﹒依申请专利范围第11项之反应性染料, 式中D系下式之单偶氮或二重氮染料基: D1─N=N─(M─N=N)s─K─ (9a)─D1─N=N─(M─N=N )s─K(9b),或─D1─N=N─ (M─N=N)s─K─(9c),或其 金属错合衍生物,D1系苯或之重氮成 分基,M系苯或系之中间成分基,K系 苯,,唑酮,6─羟─2─啶酮或 乙醯乙醯芳胺系之偶合成分量,在D1, M及K中均可具有常见于偶氮染料之取代 基,尤指羟基,胺基,甲基,乙基,甲氧 基或乙氧基,被取代或未被取代之C2─ 4烷醯胺基,被取代或未被取代之苯醯胺 基或卤原子,S系0或1及D,M及K一 共含有至少两个磺基,较佳为3或4个磺 基。 17﹒依申请专利范围第11项之反应性染料, 式中D系下式重氮染料基:D1─N=N ─K─N=N─D2─(10 或─D1 ─N=N─K─N=N─D2─(10b )D1及D2系各自独立为苯或系列之 二偶氮成分,K系系列之偶合成分,其 中D1及D2及K能带偶氮染料之取代基 ,尤指羟,胺基,甲基、乙基、甲氧基或 乙氧基,被取代或未被取代之C2─4烷 醯胺基,被取代或未被取代之苯醯胺基或 卤原子,及D1,D2及K一共含有至少 两个磺基,较佳为3或4个磺基。 18﹒依申请专利范围第12项之反应性染料, 式中D系苯或于之1:1铜错合偶氮染 料基,试铜原子及连接位于偶氮桥之邻位 之金属化之基之侧边。 19﹒依申请专利范围第12项之反应性染料, 式中D系甲染料基:或式中苯环又可被 C1─4烷基,C1─4烷氧基,C1─ 4烷矿醯,卤素或羧基所取代。 20﹒依申请专利范围第13项之反应性染料, 式中D系辊染料基:式中辊核能被另 外磺基及苯撑被C1─4烷基,C1─4 烷氧基,卤素,羧基或磺基所取代,染料 基较佳为含至少2个强水溶性基。 21﹒依申请专利范围第14项之反应性染料, 式中D系花青染料基:式中PC系铜─ 式镍─花青,W系─OH基及/或─N R3R4,R3及R4系各自独立为氢或 C1─4烷基,及能被羟或磺基所取代, R5系氢或C1─4烷基,E系苯撑基能 被C1─4烷基,卤素,羧基或磺基所取 代,或系C2─6烷撑,较佳为磺基苯撑 或乙烯,K系1至3。 22﹒依申请专利范围第15项之反应性染料, 式中D系二恶染料基:式中E系苯撑可 被C1─4烷基,卤素,羧基或磺基所代 取代,或系C2─6烷撑,在式(14a )及(14b)中之外层苯环能达进一步 被C1─4烷基,C1─4烷氧基,乙醯 胺基,硝基,卤素,羧基或磺基所取代。 23﹒依申请专利范围第19项之反应 性染料,式中A系基(7a)至(7i) 。 24﹒依申请专利范围第20项之反应性染料, 式中R8系1至3个取代基选自包含卤素 ,C1─4烷基,C1─4烷氧基,卤素 ,羧基及磺基,A系基(7a)至(7i )。 25﹒依申请专利范围第21项之反应性染料, 式中PC系铜花青或镍花青,W系─ OH及/或─NR3R4,R3及R4系 各自独立为氢或C1─4烷基可被羟或磺 基所取代,K系1至3,A系基(7a) 至(7i)。 26﹒依申请专利范围第22项之反应性染料, 式中E系直接键或(CH2)2NH─或 (CH2)3NH─基,A系基(7a) 至(7i)。 27﹒依申请专利范围第16项之反应性染料, 式中R6系1至3个取代基选自包含C1 ─4烷基,C1─4烷氧,卤素,羟基及 磺基;R系式(1)中所定义,A系基( 7a)至(7i)。 28﹒依申请专利范围第16项之反应性染料, 式中R6系1至3个取代基选自包含C1 ─4烷基,C1─4烷氧基,卤素,羟基 及磺基,A系基(7a)至(7i)。 29﹒依申请专利范围第16项之反应性染料, 式中R如式(1)中所定义,A系基(7 a)至(7i)。 30﹒依申请专利范围第16项之反应性染料, 式中R7系1至4个各自独立取代基选 自包含氢,卤素,硝基,氰基,三氟甲基 ,胺磺醯,胺基甲醯,C1─4烷基,C 1─4烷氧基,胺基,乙醯胺基,醯尿, 羟,羧基,磺甲基及磺基,R如式(1) 中所定义,A系基(7a)至(7i)。 31﹒依申请专利范围第16项之反应性染料, 式中A系基(7a)至(7i)。 32﹒依申请专利范围第16项之反应性染料, 式中R8系1或2个取代基选自包含氢, C1─4烷基,C1─4烷氧基,卤素, 羟基及磺基,Z系─硫酸乙基,─硫 代硫酸乙基,─磷酸乙基,4─醯氧乙 基,4─卤乙基或乙烯基,A系基(7a )至(7i)33﹒依申请专利范围第1 6项之反应性染料,式中R8系1或2个 取代基选自包含氢,C1─4烷基,C1 ─4烷氧基,卤素,羟基及磺基,Z系 ─硫酸乙基,─硫代硫酸乙基,4─磷 酸乙基,─醯氧乙基,─卤乙基或乙 烯基,A系基(7a)至(7i)。 34﹒依申请专利范围第16项之反应性染料, 式中R2系氢,C1─4烷基,C1─4 烷氧基,卤素,羟,羧基或磺基,U系─ CO─或─SO2─,R1系基(3a) 至(3d),A系基(7a)至(7i) 。 35﹒依申请专利范围第16项之反应性染料, 式中R9系C1─4烷醯基或苯醯基,A 系基(7a)至(7i)。 36﹒依申请专利范围第16项之反应性染料, 式中R10系C1─4烷醯基或苯醯基, A系基(7a)至(7i)。 37﹒依申请专利范围第16项之反应性染料, 式中R11系0至3个取代基选自包含 C1─4烷基,C1─4烷氧基,卤素, 羧基及磺基,A系基(7a)至(7i) 。 38﹒依申请专利范围第16项之反应性染料。 39﹒依申请专利范围第17项之反应性染料, 式中A系基(7a)至(7i)。 40﹒依申请专利范围第16项之反应性染料, 式中R8系1或2个取代基选自包含氢, C1─4烷基,C1─4烷氧基,卤素, 羟基及磺基,Z系─硫酸乙基,─硫 代硫酸乙基,─磷酸乙基,─醯氧乙 基,─卤乙基或乙烯基,A系基(4) ,(5),(6)或(8)。 41﹒依申请专利范围第16项之反应性染料, 式中R9系C1─4烷醯或醯,A系基(4),(5),(6)或(8)。 42﹒依申请专利范围第2项之反应性染料,式 中Z系─硫酸乙基,─氯乙基或乙烯 基。 43﹒一种制造式(1)反应性染料之方法,该 方法包括使下式有机染料(31):(3 1)或染料先驱物,至少2当量的均─三 (32):至少1当量的二胺(33) 及至少1当量的胺(33)依任意顺序反 应而得式中D,R,B1,B2,Q及A 如申请专利范围第1项中所定义,Hal 系卤原子或在式(1)中X及Y之定义之 一者,如使用染料先驱物,转化所得中体 式为所欲之单卤三染料,及必要时,随 即进行另外之转化反应。 44﹒依申请专利范围第44项之制法,其中染 料(31)先和均─三(32)缩合: 所得化合物(35)和二胺(33)缩 合然后再和均─三(32)及最后与胺(33)缩合。 45﹒依申请专利范围第44项之制法,其中式(1)染料 成份含下式之基:式中R和h al如申请专利范围第44项中所定义, 和制备染料所需之第二成份反应,必要时 亦可含基(36),然后所得染料(35 ):和二胺(33),另外之均─三( 32)及胺(34)反应。 46﹒依申请专利范围第1项之反应性染料,在 染印含纤维素纤物之应用。 47﹒依申请专利范围第33项之应用,系用来 染印棉布。
地址 瑞士
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