| 发明名称 | 四甲基哌啶子基-S-三嗪类化合物 | ||
| 摘要 | 含有至少一个式I基团的化合物，<img file="89101832.8_ab_1.GIF" wi="424" he="159" />其中X是完成其环使之形成哌啶环的基，该化合物是抗由光、氧和热而引起的损伤的有机材料的稳定剂。 | ||
| 申请公布号 | CN1036760A | 申请公布日期 | 1989.11.01 |
| 申请号 | CN89101832.8 | 申请日期 | 1989.02.07 |
| 申请人 | 希巴-盖吉股份公司 | 发明人 | 简·罗迪;吉尔哈德·利茨;马利奥·斯隆哥 |
| 分类号 | C07D401/04;C07D401/14;C07D471/10;C07D498/10;C07D491/10;C07DC08K5/34;//(C07D401/04,211:26,251:42) | 主分类号 | C07D401/04 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人 | 唐跃 |
| 主权项 | 1.包括至少一个化合物作为稳定剂的有机材料，上述化合物至少 含有一个式I的基团， 其中X是完成其环使之形成哌啶环的基。 | ||
| 地址 | 瑞士巴塞尔 | ||