| 主权项 |
l﹒下式表示之化合物 式中 n为0.1或2; R1为CF3或CF2H; R2为CF3或CF2H; R3为直链或支链式C1-4烷基或环丁 基; X为甲氧基、乙氧基、甲硫基、羟基、或 氯;及 R4为直链或支链式C1-C4烷基、苯 基、苯甲基、氢、氰基、叠氮基、胺基、 甲胺基或二甲胺基; 但当n为O或2时,R4不为苯基或苯甲 基,又但当R3为甲墓及R4为甲基、乙 基或第三丁基时,n不为1或2。 2﹒根据申请专利范围第1项之化合物,其中 R1和R2之一为三氟甲基而另一为二氟 甲基。 3.根据申请专利范围第2项之化合物 其中 X选自甲氧基、乙氧基及甲硫基。 4.根据申请专利范围第3项之化合物 其中 R4为直链或支之C1-C4烷基。 5.根据申请专利范围第3项之化合物,其中 R3选自环丁基,2-甲基丙基或正丙基 。 6.根据申请专利范围第5项之化合物,其中 n为0。 7.根据申请专利范围第5项之化合物,其中 n为1。 8.根据申请专利范围第5项之化合物,其中 n为2。 9﹒一种除草性组合物,其含有作为有效成分 之下式表示之化合物 式中: n为0.1或2; R1为CF3或CF2H; R2为CF3或CF2H; R3为直链或支链式C1-4烷基或环丁 基; X为甲氨基、乙氧基、甲硫基、羟基、或 氯;及 R4为直链或支链式C1-C4烷基、苯 基、苯甲基、氢、氰基、叠氮基、胺基、 甲胺基或二甲胺基; 但当n为O或2时,R4不为苯基或苯甲 基,又但当R3为甲基及R4为甲基、乙 基或第三丁基时,n不为1或2。 10﹒根据申请专利范围第9项之组合物,其 中R1和R2之一为二氟甲基而另一为二 氟甲基 I1.根据申请专利范围第10项之组合物,其 中X选自甲氧基、乙氧基及甲硫基。 lz.根据申请专利范围第11项之组合物,其 中R4为直链或支链之C1-C4基。 13.根据申请专利范围第12项之组合物,其 中R3选自环丁基,2一甲基丙基或正丙 基。 14.根据申请专利范围第13项之组合物,其 中n为0。 15.根据申请专利范围第13项之组合物,其 中n为l。 16﹒根据申请专利范围第13项之组合物,其 中n为2。 17﹒一种控制不希有植物之方法。此法包含 予植物生长处施以有效量之下式表示之组 合物 式中: n为0.1或2; R1为CF3或CF2H; R2为CF3或CF2H; R3为直链或支链式C1-4烷基或环丁 基; X为甲氧基、乙氧基、甲硫基、羟基、或 氯;及 R4为直链或支链式C1-C4烷基、苯 基、苯甲基、氢、氰基、叠氮基、胺基、 甲胺基或二甲胺基; 但当n为O或2时,R4不为苯基或苯甲 基,又但当R3为甲基及R4为甲基、乙 基或第三丁基时,n不为1或2。 18.根据申请专范围第17项之方法,其中 R1和R2之一为三氟甲基而另一为二氟 甲基 19.根据申请专利范围第18项之方法,其中 X选自甲氧基、乙氧基及甲硫基。 20.根据申请专利范围第19项之方法,其中 R为直链或支链之C1-C4基。 21.根据申请专利范围第19项之方法,其中 R3选自环丁基,2一甲基丙基或正丙基 。 22.根据申请专利范围第21项之方法,其中 n为O。 23﹒根据申请专利范围第21项之方法,其中 n为1。 24.根据申请专利范围第21项之方法,其中 n为2。 |
