| 发明名称 | 微波等离子化学汽相淀积装置 | ||
| 摘要 | 一种微波等离子化学汽相淀积装置(MW-PCVD装置)，包括真空容器，抽气装置，微波导入装置。微波传输回路包括共振腔。与两个匹配回路形成整体。MW-PCVD装置能在高运行率下运行，改进工作效率，降低A-Si元件的制造成本，降低用MW-PCVD装置淀积薄膜时，各元件间的性能偏差。 | ||
| 申请公布号 | CN1036233A | 申请公布日期 | 1989.10.11 |
| 申请号 | CN89100619.2 | 申请日期 | 1989.02.01 |
| 申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 越前裕 |
| 分类号 | C23C16/50;C23C16/52 | 主分类号 | C23C16/50 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人 | 刘建国 |
| 主权项 | 1、一种微波等离子化学汽相淀积装置(下文中简称“MW-PCVD装置”)包括：一个气密的真空容器；作为原料的气体导入装置，以导入作为原料的气体至真空容器中；抽气装置，以抽出真空器内的空气；以及微波导入装置，经过一个微波传输回路，以引导微波进入至真空容器中，使真空容器中产生等离子体；其特征在于微波传输回路包括一个与两个匹配回路形成一个整体的共振腔。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||