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发明名称 VERFAHREN ZUM REAKTIVEN IONENAETZEN VON POLYKRISTALLINEN SILIZIUMSCHICHTEN
摘要
申请公布号 DD271779(A1) 申请公布日期 1989.09.13
申请号 DD19880315354 申请日期 1988.05.04
申请人 VEB FORSCHUNGSZENTRUM MIKROELEKTRONIK DRESDEN,DD 发明人 BERTZ,ANDREAS,DD;WERNER,THOMAS,DD;SCHOLL,WOLFGANG,DD;HEINIG,VOLKER,DD;ROTHE,OLAF,DD
分类号 C23F1/02;H01L21/308;(IPC1-7):H01L21/308 主分类号 C23F1/02
代理机构 代理人
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