| 发明名称 |
Silicium-containing positive photoresist compositions with 1,2 disulfones. |
| 摘要 |
Die Erfindung betrifft Positiv-Fotoresistzusammensetzungen, enthaltend in einem organischen Lösungsmittel im wesentlichen mindestens je a) ein silyliertes Phenolharz, b) einen Sensibilisator sowie gegebenenfalls weitere übliche Zusatzstoffe, die als Sensibilisator eine 1,2-Disulfon-Verbindung der Formel I R¹-SO2-SO2-R² mit den für R¹ und R² angegebenen Bedeutungen enthalten.
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| 申请公布号 |
EP0329610(A2) |
申请公布日期 |
1989.08.23 |
| 申请号 |
EP19890810101 |
申请日期 |
1989.02.06 |
| 申请人 |
CIBA-GEIGY AG |
发明人 |
SCHULZ, REINHARD, DR.;BARTMANN, EKKEHARD, DR.;MUNZEL, HORST, DR.;WEHNER, GREGOR, DR. |
| 分类号 |
G03F7/004;G03F7/039;G03F7/075 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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