发明名称 光记录装置
摘要 确定光记录介质在被加热到第一温度以上之后受到冷却的第一状态的光点,和确定光记录介质在被加热到室温以上但不超过第一温度的第二温度之后受到冷却的第二状态的光点,即,两个光点照在光记录介质上,并处在其上的同一导轨中,其中通过控制每个光点的光点直径和/或它们的光强,在光记录介质上记录和消抹信号。
申请公布号 CN1004948B 申请公布日期 1989.08.02
申请号 CN86107205.7 申请日期 1986.10.15
申请人 株式会社日立制作所 发明人 坪井信义;渡部笃美;佐藤美雄;田智;佐佐木宏
分类号 G11B7/007 主分类号 G11B7/007
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利代理部 代理人 李强
主权项 1.光记录装置包括:光记录介质,其中被光点照射的部位被加热到超过高于室温的第一温度的温度上在加热部位冷却后建立了第一个相结构。而在被光点照射的加热到介于第一个温度与超过室温但不超过第一个温度的第二个温度之间的温度的情形下在加热部位冷却后建立了第二个相结构,从而由如下方式记录信息,即将第一和第二个相结构中的一个对应为记录了信息的状态而将其中的另一个对应为消抹掉信息的状态;其特征在于光学装置,用于聚焦两束光束以形成两个光点,并用于将两个光点定位在所述光记录介质上并沿被照射的记录轨道成为前光点和紧邻前光点的后光点;用于提供将要被记录在所述光学记录介质上的信息的信息源;用于调节所述光学装置的第一调整装置。用于使前光点的光强使由前光点照射的部位预热到不超过第一个温度的温度上,后光点的光强超过前光点光强,使预热的部位在所述后光点根据来自所述信息源的信息的照射下被加热到超过第一个温度的温度上,从而使所述部分具有第一结构;用于调整所述光学装置的第二调整装置,使得当将所述光记录介质设在第二种结构时,加强的前光点的光强将该部位加热到介于第一个温度和第二个温度之间的温度上,后光点的光强被用来将加热的部位的温度保持在第一个温度和第二个温度之间。
地址 日本国东京都