| 发明名称 |
COMPOSITION SENSIBLE A L'EXPOSITION AUX RADIATIONS POUR PLAQUES LITHOGRAPHIQUES |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
FR2510771(B1) |
申请公布日期 |
1989.06.30 |
| 申请号 |
FR19820010559 |
申请日期 |
1982.06.15 |
| 申请人 |
POLYCHROME CORP |
发明人 |
JAMES SHELNUT, EUGENE GOLDA, ALAN WILKES ET KEN-ICHI SHIMAZU;GOLDA EUGENE;WILKES ALAN;SHIMAZU KEN-ICHI |
| 分类号 |
G03C1/72;G03F7/00;G03F7/004;G03F7/023;G03F7/105;G03F7/26;(IPC1-7):G03C1/68 |
主分类号 |
G03C1/72 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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