触媒合成方法

主权项

1﹒一种供乙烯聚合或共聚合之高活性触媒之合成方法,其特征为:以至少一种有机二酸化合物或其酯类化合物加入氢化聚矽氧烷与有机镁化合物之反应生成物(A)中反应生成(B),再(1)令上述反应生成物(B)直接与钛之卤化合物反应生成固体(A)或(2)先令(B)与至少一种醇类及有机铝化合物之混合物(C)反应生成(D),再与钛之卤上合物反应生成固体(A);并配合有机铝化合物(B)所构成之触媒合成方法;其中之有机二酸化合物系指具有下列一般构造式(I)之有机二酸化合物或无水化合物具有下述一般构造式(Ⅱ)之有机酸酐化合物:R^1(COOH)2(I)R^1(CO)2O(II)R^1为H,或1-20个碳数之二价有机基其中之有机二酸酯化合物系指上述有机二酸化合物(1)之酯类衍生物具有下述一般构造式(Ⅲ)之有机二酸酯化合物R^1(COOR^2)2(Ⅲ)R^1为H2或1-20个碳数之二价有机基,R^2为1-12个碳数之一价有机基;其中之氢化聚矽氧烷系指具有下列构造单元(IV)之有机矽化合物:Ra^3Hbsi(4─a─b)/2(IV)R^3为选自烷基,芳基,芳烷基,烷氧基,芳氧基等一价有机基;a=0,1,2;b=1,2,3;a+b≦3,具有任意聚合度之化合物或其混合物,其黏度在25℃时为1000史托以下者。其中之有机镁化合物系指具有下列构造式(V)之有机镁化合物:(MgR^42)m﹒(R^4MgX)n(V)R^4为烃基;X为卤素原子;mn为0-1之间,且m+n=1﹒其中之反应生成物(a)系将氢化聚矽氧烷化合物(Iv)与有机镁化合物(V)接触反应而得,反应在─50℃-100℃下进行30分钟-300分钟,其中矽化合物与镁化合物之比例Si─O:Mp─R^4=1:0﹒05-1莫耳。其中之反应生成物(b)系将有机二酸化合物(I)或有机酸酐化合物(Ⅱ)或有机二酸酯化合物(Ⅲ)等与反应生成物(a)接触反应而得,反应在─50-100。c下进行数分钟-100分钟%,其中有机二酸化合物(1)或有机酸酐化合物(Ⅱ)或有机二酸酯化合物(Ⅲ)与反应生成物(a)之比例为R^1(COOH)2或R^1(CO)2O或R^1(COOR^2)2:Mg=1:1-50。其中之钛卤化合物系指具有下列一般构造式(VI)之钛卤化合物:TiXn(OR^5)4─n(VI)R^5为取自1-8个碳数之一价有机基;X为卤素原子:n=1-4。其中之醇类化合物系指具有下列一般构造式(VO)之醇类化合物R^6OH(Ⅶ)R^6为取自1-20个碳数之一价有机基;碳链则为直链或支链均可,亦可混合两种以上醇类参与反应。其中与醇类化合物(Ⅶ)混合之有机铝化合物系指具有下列一般构造式(Ⅷ)之有机铝化合物:A1Rn^7X3─n(Ⅷ)R^7为取自1-8个碳数之一价有机基:X为卤素原子,氢原子或烷氧基;0