| 主权项 |
1﹒制备具有下式化合物的方法:其中R为氢 或该R1为特丁基二甲基甲矽烷基,该方 法包含在四氢喃中,于温度在—30℃ 至环温的范围内,用实质上一当量均低亲 核性无水强硷,于三苯膦之存在或存在下 来处理具下式的化合物,其中该硷为硷金 属氢化物、特丁醇硷金属或六甲基二矽烷 叠氮硷金属,2﹒制备具下式化合物的方 法其中R为氧或且R1为特丁基二甲基甲 矽烷基以具下式的化合物为起始化合物( 其中R如上述所定义且X为溴基或氯基该 方法包括:(a)在0—35℃下,使具 式(III)的上述化合物在乙中与碘 化钠接触;或是(b)在乙中,在25 ─80℃(当X为溴基时)60—100 ℃或下(当X为氯基)加热式(III) 的化合物。 3﹒具下式的化合物其中R为氢或且R1为特 丁基二甲基甲矽烷基。 |
