| 摘要 |
<p>Es wird ein Verfahren zur Nachbehandlung von entwickelten Reliefdruckformen für den Flexodruck beschrieben, die in bekannter Weise nachbelichtet und anschließend entsprechend der Erfindung mit einer Lösung im wesentlichen bestehend aus einem organischen Lösemittel und einem gelösten Aryl- bzw. Hetaryl-bis-trihalogen-methyl-s-triazin der Formel I behandelt, getrocknet und anschließend kurzzeitig mit UV-Licht nachbelichtet werden. Durch das erfindungsgemäße Verfahren wird nicht nur die Klebrigkeit der Oberfläche von lichtgehärteten Photopolymer-Flexodruckformen aufgehoben, sondern auch die Resistenz dieser Formen gegenüber ozonhaltiger Luft beträchtlich vergrößert.</p> |
