| 主权项 |
1.一种分割罩幕一图案转移形式之电子束曝光法, 其中一指定图案被分割成复数个区块以便在每个 上述区块中形成一分割图案,然后对于每个上述区 块依序地曝光,从而完成整个上述指定图案之投影 ,包括下列步骤: 依序利用每个上述区块执行曝光且转印上述区块 上之分割图案;以及 依序以各个上述分割图案之逆图案的散焦光束执 行上述分割图案之每个投影部位的修正曝光,从而 修正图案曝光所产生的邻近效应。2.如申请专利 范围第1项所述之分割罩幕一图案转移形式之电子 束曝光法,包括下列步骤: 使用一罩幕,其在同一个基底上具有藉由分割该指 定图案成复数个区块以便在每个上述区块中形成 一分割图案所形成之一组分割图案及该等分割图 案之一组逆图案,以依序利用每个上述区块执行曝 光并且转印上述区块上之分割图案;以及 依序以各个上述分割图案之逆图案的散焦光束执 行上述分割图案之每个投影部位的修正曝光,从而 修正图案曝光所产生的邻近效应。3.如申请专利 范围第1项所述之分割罩幕一图案转移形式电子束 曝光法,包括下列步骤: 使用一第一罩幕其具有藉由分割该指定图案成复 数个区块以便在每个上述区块中形成一分割图案 所形成之一组分割图案,以依序利用每个上述区块 执行曝光并且转印上述区块上之分割图案;以及 使用一第二罩幕其具有该等分割图案之一组逆图 案,依序以各个上述分割图案之逆图案的散焦光束 执行上述分割图案之每个投影部位的修正曝光,从 而修正图案曝光所产生的邻近效应。4.如申请专 利范围第3项所述之分割罩幕一图案转移形式电子 束曝光法,其中使用印刷模板罩幕作为第一罩幕, 及使用散射薄膜罩幕作为第二罩幕。5.一种电子 束曝光罩幕,其使用于如申请专利范围第2项所述 之电子束曝光法,其在同一个基底上具有藉由分割 该指定图案成复数个区块以便在每个上述区块中 形成一分割图案所形成之一组分割图案及该等分 割图案之一组逆图案。6.一种电子束曝光系统,包 括: 一第一结构,其配置有如申请专利范围第5项所述 之罩幕,藉由将于每个上述区块中之该分割图案依 序地完成曝光以转印上述指定图案,藉由将于每个 上述区块中之该逆图案一个接一个地完成曝光而 得以藉由逆图案之光束对上述分割图案的每个投 影区域施行曝光;以及 一第二结构,每当使用逆图案之光束曝光时,其可 散焦逆图案之光束。图式简单说明: 第1(a)图至第1(b)图系显示依据本发明在一罩幕中 之一图案区域之构成之平面示意图。 第2(a)图至第2(e)图为说明依据本发明制造罩幕之 方法的例子之步骤的一系列剖面图。 第3图为说明依据本发明之电子束曝光系统中的光 学系统之示意图。 第4图为显示电子束曝光引起之沉积能量分布图来 说明邻接效应。 第5(a)图至第5(c)图为依据鬼影法说明邻接效应修 正原理的示意图。 第6(a)图至第6(b)图为说明分割罩幕一图案转移形 式电子束曝光法之示意图。 第7图为说明习知的散射角度限制形式电子束曝光 法之邻接效应修正的光学系统示意图。 第8(a)图至第8(c)图说明习知的散射角度限制形式 电子束曝光法之邻接效应修正的原理。 第9(a)图至第9(c)图说明习知的散射角度限制形式 电子束曝光法之邻接效应修正的原理。 |
